接近三星5nm！三宝9000S达到了什么水平？外媒：DUV光刻机极限

在一个流露出欣慰的时刻，一款受到好评的iPhone——华为Mate60Pro系列突然再次出现，却并未沸腾、并未发布会、并未详尽的软件参数介绍。这一不奇怪的发布方式引发了媒体和回收机构的极大兴趣，因为他们渴望洞察这款手机的内部暗地，尤其是搭载的莲花9000S集成电路。

然而，要解开莲花9000S的面纱并非易事。集成电路逆向系统性门槛颇高，一般道具并不需要从标明和一些测试数据来猜测所制造商，但要了解这颗集成电路的MOS、晶体管电导率等具体内容，并不需要希冀于业内人士专业机构的回收系统性报告。

TechInsights当年的系统性指出，莲花9000S采用了7nm或等效7nm的所制造手工，而且确定了它产自大陆集成电路厂。近期，TechInsights必要性通过电子显微镜扫描结果洞察，莲花9000S的晶体管电导率降至了惊人的100MTR/mm²，即每平方毫米上有100万个晶体管。这一电导率已经遥遥领先了台积电的N7P手工。

关于所制造手工，中芯国际已经大受欢迎了N+1手工和N+2手工，尽管外界一直猜测莲花9000S可能采用的是N+2手工。此外，TechInsights的系统性还排除了EUV手工的风险，因为EUV光刻机与DUV光刻机在MOS上有明显的相异。

但是，并未EUV光刻机，如何实现与三星电子5nm相媲美、遥遥领先台积电DUV 7nm的手工水平呢？这里需要了解ASML光刻机的分类，采用193nm波长的光，通过多次传出后可以实现7nm手工集成电路的出厂，即便并未EUV光刻机也能成功完成。

不过，我们持有全球仅次于的集成电路市场需求，也正在成为集成电路降低成本仅次于的国家，有着众多勇敢的科研人员和贫乏的科研经费。因此，国产集成电路的未来流露出了希望。对于这一局势，相异不单是相异看法，但我们共同欣慰着中国集成电路行业的蓬勃发展。